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無錫施耐爾電子設(shè)備有限公司

工廠地址:無錫市新吳區(qū)碩放工業(yè)集中區(qū)五期A21號

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智能HMDS真空烘箱

一、產(chǎn)品介紹:
本公司為專業(yè)制造企業(yè),所生產(chǎn)的烘箱取得專利。HMDS適用行業(yè)-硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。

HMDS預處理系統(tǒng)的必要性:
在半導體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS 預處理真空系統(tǒng)通過對箱體內(nèi)預處理過程的真空、烘烤、充氮、潔凈、HMDS加液等程式過程,參數(shù)控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。 
二、產(chǎn)品特點:

1.控制界面:采用日本三菱 PLC+7寸觸摸屏控制系統(tǒng),程式化運行,溫度系統(tǒng),真空系統(tǒng), 充氮系統(tǒng),HMDS 注液系統(tǒng)。

2.控制模塊:控制模塊是本系統(tǒng)的核心模塊,它的作用是控制各個模塊的動作和時序,完成整個工藝過程。

3.內(nèi)膽材質(zhì):整個系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)醫(yī)用級316L不銹鋼材料制作,無發(fā)塵材料,適用百級光刻間凈化環(huán)境。

4.密封裝置:密封條為高溫硅膠制作,可耐溫不變形,門與箱體連接密封,加強密封效果。

5.加熱裝置:加熱器采用SUS304#被覆無塵化SHEATHED HEATER壽命長且無污染,依據(jù)使用溫度調(diào)整控制,節(jié)約能源。

6.加熱方式:采用無觸點SCR固態(tài)繼電器控制每段溫區(qū)發(fā)熱管輸出功率大小,接近恒定溫度時,加熱電流變小,使其恒定溫度。

7.底部結(jié)構(gòu):萬向移動福馬一體承重腳輪,固定好位置可落下支撐腳,方便移動及固定

8.可視窗:采用鋼化、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實驗情況。

9. 溫度傳感器 采用日制 PT100 鉑金電阻,精度±0.5%,反應(yīng)靈敏,耐高溫。

10.真空系統(tǒng):雙旋片真空泵、真空組件、壓力測量等組成,主要作用是置換氣體和抽走剩余 HMDS 蒸汽。

11.充氮系統(tǒng):作用是在置換過程中,用氮氣來逐漸稀釋空氣或藥液蒸汽,從而最終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛,氮氣流量,充入時間可控制。

12.HDMS 注液系統(tǒng):HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計,配置不銹鋼藥液管道,使真空箱密封性能極好。

13.保護系統(tǒng):相序保護,漏電保護,過載保護,控制線路,超溫保護,壓力過載保護,急停開關(guān),工作狀態(tài)指示燈。

 

型號規(guī)格參數(shù):

型號

SNR-HMDS-090

SNR-HMDS-210

電源電壓

220V/50HZ

380V/50HZ

控溫范圍

RT+10℃-250℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度波動度

≤±0.5℃

  

≤133Pa

工作室尺寸(mm)

W450*D450*H450

W560*D600*H600

外形尺寸(mm)

W850*D700*H1490

W960*D850*H1620

層板數(shù)量

2塊

3塊

功率

3KW

4.5KW

 

 

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